等離子增強化學氣相沉積系統（PECVD）
價 格：詢價
產 地：美國更新時間：2021-02-26 15:32
品 牌：Nano-Master型 號：
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等離子增強化學氣相沉積系統（PECVD）
美***NANOMASTER公司PECVD(等離子增強化學氣相沉積)系統能夠沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。可選用射頻（RF）、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應耦合等離子體（ICP）源。該公司采用先進技術和穩定可靠的設計為您提供多方位的服務。
產品參數
等離子增強化學氣相沉積系統（PECVD）
1) 平板尺寸：8”
2) 源直徑：5”或8”
3) 氣體輸入管數量：4（兩個反應氣，一個載氣，一個排空管）
4) 源距平板的距離：2”或者可調
5) 真空：低于E-7Torr，200L/sec渦輪分子泵及3.5cfm機械泵組合
6) 最大平板溫度：800℃
7) 射頻電源供應：600W，13.5MHz
8) 射頻偏壓：300W，13.5MHz
產品型號：
NPE-3000 桌面型PECVD系統
NPE-4000 立式型PECVD系統
產品介紹
等離子增強化學氣相沉積系統（PECVD）
應用領域：
1. 等離子誘導表面改性
2. 等離子清洗（NF3）
3. 反應離子蝕刻
4. 等離子體聚合
5. PECVD沉積SiO2、Si3N4、類金剛石、硬質薄膜等
滬公網安備31011502016460號
